IPS e.max CAD MO (Medium opacity - medium opaakkinen) -litiumdisilikaattiblokki CAD/CAM-tekniikkaan Cerec/inLab-jyrsinlaitteille. Käyttöindikaatiot: cut-back-tekniikalla kerrostettavat kruunut etu- ja premolaarialueelle sekä hybridiabutmentit. Taivutuslujuus 530 MPa. IPS e.max CAD MO-blokista valmistetun kruunun kerrostaminen tapahtuu IPS e.max Ceram -keraamilla.